5.0N氯化氫氣體

    高純氯化氫是集成電路生產中硅片蝕刻，鈍化和外延等工藝的重要材料，也可用于金屬冶煉、光導通訊和科學研究領域。在眾多領域中的作用越來越重要。今天小編要為您介紹一下制作高純氯化氫的流程。

    20世紀70年代以前電子工業用高純氯化氫的制備一直是將濃硫酸家加到濃鹽酸中，將其中的水分吸收掉。是過飽和的氯化氫氣體析出。20世紀80年代以后制備方法發展到用濃硫酸與烘干的氯化鉀反應，生成高純氯化氫氣體，用壓縮機壓入鋼瓶中。即曼海姆法硫酸鉀聯產氯化氫氣體。此種方法的氯化氫氣體純度在99.9%（質量分數）以上。

    其國內工藝流程為：以氯化鉀與98%濃硫酸為原料，按2：1（摩爾比）的比例加入到曼海姆爐中，通過干氣的燃燒間接加熱使爐內物料在500～600的℃高溫下，經耙齒不斷攪拌混合使其反應充分，生成的硫酸鉀經出料口進入密閉的冷卻器，少量的游離硫酸用石灰中和后，經粉碎、冷卻、篩分、包裝即成成品，反應中產生的氯化氫氣體被風機引至吸收工序。氯化氫氣體經過空氣冷卻器和冷卻洗滌塔，在洗滌塔用循環水間接冷卻及濃鹽酸洗滌后，使其降溫并除去雜質，凈化后的氯化氫氣體在降膜吸收塔被來自解吸工序的21%稀鹽酸吸收為35%的濃鹽酸，其中一部分濃鹽酸做洗滌用，其余被送至解吸工序進行解吸。由吸收工序送來的35%濃鹽酸經流量計控制進入解析塔頂部，與再沸器來的120℃的氯化氫氣液混合物進行熱量和質量交換，將濃鹽酸中的氯化氫氣體脫析出來，直至塔底及及再沸器處達到恒沸物的平衡狀態為止。脫吸出來的氯化氫由解吸塔頂部進入冷凝器、冷卻器，除去大部分水后，進入濃鹽酸分離器，進一步除去酸霧后，得到高純的氯化氫氣體，解析塔底的21%稀鹽酸一部分進入再沸器參與解吸作用，其余部分經冷卻器降溫后送回吸收工序作為吸收液去吸收氯化氫氣體。